【科普】半导体制造过程的步骤、技术、流程

在这篇文章中，我们将学习基本的半导体制造过程。为了将晶圆转化为半导体芯片，它需要经历一系列复杂的制造过程，包括氧化、光刻、刻蚀、沉积、离子注入、金属布线、电气检测和封装等。

基本的半导体制造过程

1.晶圆（Wafer）：晶圆是半导体的基础，通常由高纯度的单晶硅制成。它为集成电路的制造提供了一个平整、光滑的表面。

2.氧化（Oxidation）：在晶圆表面形成一层薄的二氧化硅（SiO2），这层氧化膜作为绝缘体，保护下方的硅，并在后续步骤中作为模板。

3.光刻（Photolithography）：通过光刻，电路设计被转移到晶圆上。这一步使用光敏化合物（光刻胶）和紫外光，通过掩模将电路图案投射到晶圆上。

4.刻蚀（Etching）：刻蚀是去除不需要的材料的过程，以揭示光刻步骤中定义的电路图案。刻蚀可以是湿法或干法。

5.沉积和离子注入（Deposition and Ion Implementation）：在这一步，会在晶圆上沉积非常薄的薄膜，并可能注入离子以改变硅的电学性质。这些薄膜可能是导电或绝缘的，用于构建电路的不同部分。

6.金属布线（Metal Wiring）：通过沉积一层薄金属膜，允许电流在电路中流动，连接不同的组件。

7.电子管芯分选（EDS - Electrical Die Sorting）：在整个制造过程中，对半导体芯片进行电气测试，以确保它们没有缺陷，满足性能要求。

8.封装（Packaging）：最后，将晶圆切割成单个的半导体芯片，并将它们封装在保护性材料中，以保护芯片免受损害，同时提供与外部电路的连接点。

这些步骤需要高度精确的技术和严格的环境控制，以确保制造的半导体芯片具有高性能和可靠性。随着技术的进步，这些制造过程也在不断发展，以生产更小、更快、更高效的芯片。

半导体制造过程及其使用的技术非常复杂，下面是每个步骤的详细解释：

1.硅晶圆-制造半导体的基础：

· 硅晶圆是半导体制造的基础，类似于建筑的地基。硅晶圆是由高纯度的单晶硅制成，提供集成电路制造所需的平整、光滑表面。

· 制造过程开始于从高纯度硅原料中提取单晶硅。这通常通过直拉或者浮区方法完成并获得单晶硅棒。

· 然后，这个单晶硅棒被切割成薄片，这些薄片就是硅晶圆。晶圆的直径通常为150mm、200mm或300mm，直径越大，可以从单个晶圆上切割出的芯片数量越多。

这个步骤是整个半导体制造过程的基础，为后续的复杂结构提供了稳定的平台。随着技术的进步，晶圆的尺寸和纯度不断提高，从而推动了更小、更高效的半导体器件的发展。

确实，大多数硅晶圆是由从沙子中提取的硅制成的。这个过程涉及到几个关键步骤：

1.1从沙子中提取硅：

· 沙子主要由二氧化硅（SiO2）组成。首先，沙子被加热到极高温度，使其熔化成高纯度的液体。然后，通过结晶过程，这个液体会凝固成硅棒，也被称为硅锭（ingot）。

1.2切割成晶圆：

· 硅锭随后被切割成圆盘状的薄片，这些薄片就是硅晶圆。这个过程类似于切蛋糕。

1.3晶圆表面抛光：

· 初切割的晶圆表面粗糙，存在缺陷。这些表面缺陷可能会对电子电路的精度产生负面影响。因此，使用抛光机对晶圆表面进行抛光，以获得平整、光滑的表面。

1.4晶圆的表面特征：

· 抛光后的晶圆表面通常会有一个网格图案。这个图案有助于在后续的光刻步骤中定位电路图案。

1.5晶圆尺寸与芯片产量：

· 晶圆的直径越大，其表面可以制造的芯片数量就越多。常见的晶圆直径有150mm、200mm和300mm。

通过这个过程制成的硅晶圆是制造半导体的主要材料。晶圆的制造质量对最终半导体器件的性能有着决定性的影响。随着技术的进步，晶圆的尺寸和纯度不断提高，推动了半导体行业的快速发展。

现在，让我们深入了解半导体制造过程中的氧化步骤：

2.氧化过程

· 在第一步中制造出的硅晶圆本身并不具备所需的电导性。为了使其成为半导体，晶圆需要经过氧化过程。

· 在这一步中，氧气或水蒸气被喷射到晶圆表面，形成一个均匀的氧化膜。这个氧化膜主要由二氧化硅（SiO2）组成，也被称为硅氧化物。

2.1 氧化膜的作用：

· 这个氧化膜作为绝缘体，保护下方的硅，并在后续的光刻和刻蚀步骤中作为模板。

· 它还有助于定义电路的几何形状，因为光刻胶可以精确地沉积在氧化膜上。

氧化过程对于半导体器件的性能至关重要。它不仅提供了必要的电绝缘，还确保了电路的精确制造。随着技术的进步，氧化过程也在不断优化，以支持更小、更复杂的半导体器件的制造。

氧化膜确实在半导体制造过程中扮演着重要的角色，它不仅保护晶圆表面免受后续工艺的影响，还阻止了电路之间的电流泄漏。这个膜就像一个坚固的保护盾牌，确保了半导体器件的稳定性和可靠性。

现在，半导体制造的基础已经准备好了。关于热氧化硅，以及干氧化和湿氧化过程之间的区别，这里有一些补充信息：

2.2热氧化硅：

· 热氧化是在高温下将硅转化为二氧化硅的过程。这个过程通常在氧气或水蒸气的环境中进行，温度通常在900°C到1200°C之间。

2.3干氧化与湿氧化：

· 干氧化：干法氧化则采用高温纯氧与晶圆直接放音的方式：在氧气环境中进行，通常产生较薄的氧化膜，但生长速率较慢。

· 湿氧化：在水蒸气环境中进行，可以产生较厚的氧化膜，且生长速率较快。湿法氧化采用晶圆与高温水蒸气（水）反应的方式生成氧化膜，化学方程式如下：

Si (固体)+ 2H₂O (气体) → SiO₂ (固体) + 2H₂ (气体)

在热氧化硅的过程中，干氧化和湿氧化是两种主要的方法，它们在集成电路制造和其他半导体工艺中都有广泛的应用。干氧化相比湿氧化，干氧化的氧化膜生长速度更慢，但干氧化的优点在于不会产生副产物（H2）,且氧化膜的均匀度和密度均较高。

接下来，让我们深入了解光刻（Photolithography）过程：

3.光刻过程

· 光刻是将电路设计图案转移到晶圆上的过程，是半导体制造中的关键步骤。在这一步中，使用光刻胶（一种光敏化合物）涂覆在晶圆的氧化膜上。

3.1光掩模的作用：

· 光掩模（photo mask）是光刻过程中的关键组件，它是一个玻璃基板，上面有计算机设计的电路图案。

· 当紫外光通过光掩模照射到晶圆上的光刻胶时，电路图案就被转移到了光刻胶上。

光刻过程需要在高度洁净的环境中进行，以确保电路图案的精确转移。这个过程非常类似于使用胶片相机开发照片的过程，但是应用于半导体制造中，用于创建微小的电路图案。随着技术的进步，光刻技术也在不断发展，以支持更小、更复杂的集成电路的制造。

光刻过程确实是半导体制造中的关键步骤，它涉及到使用光刻胶来转移电路图案。以下是光刻过程的详细解释：

3.2光刻胶的应用：

· 光刻胶是一种对光敏感的材料，它被均匀而薄地涂覆在晶圆表面的氧化膜上。光刻胶的功能是保护某些区域免受后续刻蚀过程的影响。

·根据其化学性质和曝光后的处理方式，光刻胶主要分为正胶（正性光刻胶）和负胶（负性光刻胶）：

3.2-1 正胶（正性光刻胶）：

a.曝光原理：在紫外光（或其他类型的辐射）照射下，正胶中曝光区域的光敏组分会发生化学变化，从而增加溶解度。

b.显影过程：显影时，曝光区域因溶解度增加而被溶解，而未曝光区域保持不溶，形成图案。

c.应用：正胶通常用于高分辨率和高精度的图案制作，适用于先进的半导体制造工艺。

3.2-2 负胶（负性光刻胶）：

a.曝光原理：在曝光过程中，负胶中曝光区域的光敏组分会发生交联，从而降低溶解度。

b.显影过程：显影时，曝光区域因溶解度降低而不被溶解，而未曝光区域被溶解，形成图案。

c.应用：负胶通常用于制作较大的图案，或者当需要更好的对比度和抗刻蚀性时。

正胶和负胶的选择取决于所需的图案大小、分辨率、对比度以及特定的制造工艺要求。随着半导体制造技术的进步，对光刻胶的性能要求也在不断提高，特别是在高精度和细微图案的加工方面。

3.3图案的转移：

· 当紫外光通过带有电路图案的光掩模照射到晶圆上的光刻胶时，图案就被转移到了光刻胶上。这一步类似于在胶片相机中开发照片的过程。

3.4显影过程：

· 在显影过程中，使用显影剂喷雾，并从被光线照射的区域去除未曝光的区域，从而在晶圆表面印上电路图案。

3.5检查和验证：

· 完成显影后，晶圆会经过检查，以确保电路图案被正确地绘制。

· 光刻技术对于制造微小、复杂的集成电路至关重要。随着技术的发展，光刻技术也在不断进步，以支持更小尺寸的半导体器件制造。

接下来，让我们深入了解刻蚀（Etching）过程：

4.刻蚀过程

4.1刻蚀的目的：

· 刻蚀的目的是从晶圆表面移除不必要的材料(多余的氧化膜)，只留下设计好的图案。

4.2刻蚀技术：

· 刻蚀可以使用液体或气体的技术。

· 湿法刻蚀：使用化学溶液进行刻蚀的过程被称为湿法刻蚀。

· 干法刻蚀：使用气体或等离子体进行刻蚀的过程被称为干法刻蚀。

·各· 各向同性刻蚀（Isotropic Etching）：

定义：各向同性刻蚀是指刻蚀过程在所有方向上以相同的速率进行，即刻蚀垂直于晶圆表面和水平于晶圆表面的速率相同。

特点：这种刻蚀方式不区分材料的方向，导致侧壁垂直于晶圆表面，形成类似圆筒或倒锥形的三维结构。

应用：常用于去除不需要的材料，或在需要形成均匀的三维结构时使用。

· 各向异性刻蚀（Anisotropic Etching）：

定义：各向异性刻蚀是指刻蚀过程在不同方向上的速率不同，通常垂直于晶圆表面的速率远大于平行于晶圆表面的速率。

特点：这种刻蚀方式对材料方向敏感，导致侧壁垂直于晶圆表面，而底部的刻蚀速率远低于侧壁。

应用：在各向异性刻蚀中，可以形成具有高深宽比的结构，如V形槽、沟槽等，这些结构对于制造集成电路中的晶体管和其他微电子器件非常重要。

总的来说，各向同性刻蚀和各向异性刻蚀的主要区别在于刻蚀速率在不同方向上的差异。这些不同的刻蚀技术被广泛应用于微电子制造中，以满足各种不同的结构和器件要求。

刻蚀过程需要精确控制，以确保只有不需要的材料被移除，而电路图案保持不受影响。这个过程对于制造出精确的半导体器件至关重要。随着技术的进步，刻蚀技术也在不断发展，以支持更小、更复杂的集成电路的制造。在半导体制造过程中，刻蚀是一个关键步骤，用于根据光刻胶图案转移电路图案到晶圆的表面。

刻蚀后，通常需要去除光刻胶，因为光刻胶不再用于图案转移，且可能影响后续工艺步骤。去除光刻胶的过程称为去胶（或剥离）。

去胶的方法通常包括化学溶剂剥离和等离子体剥离。化学溶剂剥离涉及使用特定的化学溶液溶解光刻胶，而等离子体剥离则使用等离子体处理来分解和去除光刻胶。

去除光刻胶的原因包括：

1.避免干扰：光刻胶可能会干扰后续的工艺步骤，如掺杂、沉积或进一步的刻蚀。

2.确保表面平整：光刻胶的存在可能会导致晶圆表面不平整，影响后续工艺的质量。

3.便于检查：去除光刻胶后，可以更容易地检查刻蚀的质量和完整性。

4.准备后续工艺：去除光刻胶是准备晶圆进行下一阶段制造的关键步骤。

因此，刻蚀后去除光刻胶是半导体制造流程中的一个标准步骤。

想象在比指甲还小、比纸张还薄的半导体芯片上构建一座大楼，确实是一个挑战。光刻和刻蚀过程在晶圆上是分层次重复进行的，这里需要一种绝缘薄膜来分隔和保护堆叠的电路。这种薄膜被称为薄绝缘层，涉及到在极小的尺度上进行精确的操作。

4.3多次重复的光刻和刻蚀：

· 在半导体制造中，光刻和刻蚀过程需要多次重复，每次都在晶圆上构建一层新的电路结构。这个过程类似于在多层印刷电路板（PCB）上构建电路。

4.4绝缘薄膜的需求：

· 在构建多层电路时，需要一个绝缘薄膜来分隔和保护这些堆叠的电路。这种薄膜被称为薄绝缘层，对于确保电路的稳定性和防止短路至关重要。

接下来，让我们深入了解沉积和离子注入（Ion Implementation）过程：

5.沉积和离子注入过程

5.1沉积：

· 沉积是在晶圆上涂覆一层极薄的薄膜（分子或原子级别）的过程。这种薄膜可以是导电材料或绝缘材料，用于构建电路的不同部分。

· 由于薄膜非常薄，因此需要精确和复杂的技术来均匀地涂覆在晶圆上，从而赋予半导体电学特性。

由硅制成的半导体本身不导电，但通过添加杂质，它能够导电并具有导电特性。薄膜沉积是半导体制造的核心工艺之一，作用是在晶圆表面通过物理/化学方法交替堆叠 SiO2、SiN 等绝缘介质薄膜和Al、Cu 等金属导电膜等，在这些薄膜上可以进行掩膜版图形转移（光刻）、刻蚀等工艺，最终形成各层电路结构。由于制造工艺中需要薄膜沉积技术在晶圆上重复堆叠薄膜，因此薄膜沉积技术可视为前道制造中的“加法工艺”。

5.2离子注入：

· 离子注入是将掺杂剂（如硼、磷）的离子加速并注入到硅中的过程。掺杂剂改变了硅的电学性质，使其能够导电。

· 通过精确控制离子注入的深度和浓度，可以精确地调整半导体材料的电学特性。

这些步骤是制造高性能、高密度集成电路的关键。随着技术的进步，这些过程也在不断发展，以支持更小、更高效的半导体器件的制造。在半导体制造过程中，离子注入是一个关键步骤，它涉及将离子注入到晶圆的表面层，以改变其电学性质。

离子注入后，通常需要对晶圆进行match抛光，这个过程被称为化学机械抛光（Chemical Mechanical Polishing，简称CMP）。离子注入会导致晶圆表面变得粗糙，因为注入的离子会与晶圆材料发生碰撞，造成损伤和应力。此外，离子注入可能会引起晶圆表面的形变或形成凸起。为了去除这些损伤、形变和凸起，确保后续工艺步骤的准确性，需要进行抛光。

化学机械抛光（CMP）是一种常用的方法，它结合了化学反应和机械磨擦来平滑晶圆表面。CMP不仅可以修复离子注入造成的损伤，还可以确保晶圆表面的平整度，这对于后续的光刻和图案转移步骤至关重要。因此，离子注入后进行抛光是一个必要的步骤，以确保半导体器件的性能和可靠性。

总结来说，通过晶圆制造、氧化、光刻、刻蚀、沉积和离子注入过程，晶圆变得具有导电性，并且在其上绘制了大量的电路。

接下来，我们来看看金属布线（Metal Wiring）过程：

6.金属布线过程

6.1金属布线的重要性：

· 为了使电路工作，必须施加电信号。这就需要根据电路图案创建电流通过的路径，这个过程被称为金属布线。

6.2金属布线的过程：

· 金属布线是通过沉积一层薄金属膜来实现的，使用的材料包括铝、钛或钨等。

· 这层金属膜允许电流按照电路图案通过半导体器件。

金属导线（黄色）连接器件的层（红色）

金属布线是半导体制造的关键步骤之一，它确保了电流可以在复杂的电路结构中有效流动。随着技术的进步，金属布线技术也在不断发展，以支持更小、更复杂的集成电路的制造。

6.3金属布线材料的选择：

· 尽管铜的电阻比铝低约40%，在半导体制造过程中通常避免使用铜。这是因为铜被称为“半导体杀手”，它会迅速扩散到硅中并改变其电学性质，可能导致晶体管无法正常工作。为了防止这种情况，使用一种叫做钽（Ta）的金属来在铜导体和器件层之间创建边界。

· 铝是半导体芯片中最常用的金属互连材料，它很好地粘附在氧化层（二氧化硅）上，并且易于加工。

铝倾向于与硅（Si）反应，硅是晶圆的主要材料。当铝金属导线在器件层中紧贴硅材料时，需要在两者之间放置像钛化合物这样的阻挡金属作为屏障。阻挡金属：减少金属间电阻同时，在器件和接触之间需要一个被称为阻挡金属的金属或金属化合物。在半导体加工中，精确连接非金属和金属材料非常困难。当直接连接具有不同特性的两种材料时，在金属和硅之间的导带差异会导致边界处产生高电阻。这导致半导体功耗增加。为了避免这种情况，需要添加阻挡金属。为了制造阻挡金属，将钛（Ti）或钴（Co）等材料应用于半导体器件的硅层顶部，金属与硅原子发生反应。这个过程称为“硅化”，相应的区域被称为接触硅化物。阻挡金属还用于在过程中防止对器件的意外损害。

7.电子管芯分选

· EDS是确保半导体芯片无缺陷的测试过程。这是一个筛选出有缺陷芯片的测试步骤。

· ·收益率是指相对于单个晶圆上最大芯片数量的优质芯片的百分比。

EDS是Electrical Die Sorting的缩写，中文名称为电子管芯分选。它是半导体制造过程中的一道关键工序，用于评估和分类晶圆上的芯片（die），确保它们符合预定的电气性能标准。EDS的主要目的是提高生产效率和产品质量，减少后续工艺中的浪费，并确保半导体产品的性能和可靠性。以下是EDS的五个主要步骤：

1)电气参数监控（Electrical Parameter Monitoring, EPM）

· EPM是EDS的第一步，它测试半导体集成电路中每个元件（如晶体管、电容器和二极管）的电气参数，以确保它们符合标准。这一步骤提供数据，帮助优化制造工艺和提高产品性能，但不是直接用于检测不良产品。

2)晶圆老化测试（Wafer Aging Test）

· 老化测试旨在模拟芯片在实际使用中的老化过程，通过在特定温度和电压下测试晶圆，以发现早期可能出现的缺陷，从而提高最终产品的可靠性。

3)检测（Testing）

· 在老化测试完成后，使用探针卡将芯片连接到测试装置，进行温度、速度和运动测试，以检验相关半导体功能。

4)修补（Repairing）

· 在某些情况下，一些不良芯片可能是可以修复的。通过替换存在问题的元件，可以修复这些芯片，从而提高整体良率。

5)点墨（Inking）

· 无法通过电气测试的芯片在之前的步骤中已经被筛选出来。点墨是通过在芯片上添加特殊标记，以肉眼可见的方式区分它们。过去，这需要手动操作，但现在通常由系统根据测试数据自动完成。

通过这些步骤，EDS能够有效地提高半导体制造的良率，减少不良产品的数量，并确保最终产品的质量和可靠性。

半导体封装在半导体制造和设计中扮演着核心角色，影响着功率、性能和成本，同时也是芯片基本功能的保障。封装不仅保护晶圆，还负责连接芯片与电路板或其他芯片，并可能负责散热。封装可以是简单组件的“经典”封装，如TO、SIL、QIP或QFN封装，也可以是高级封装，如2.5D、倒装芯片、晶圆级芯片封装（WLCSP）、3D IC、扇出晶圆级封装（FOWLP）、混合键合和系统级封装（SiP）。

这些封装采用不同材料，如聚合物、陶瓷、硅，并具备主动或被动功能。随着半导体封装技术的进步，它已成为半导体设计的关键部分，各大代工厂和OSAT公司正在竞争中扩大市场份额。（注：OSAT公司，即外包半导体组装和测试（Outsourced Semiconductor Assembly and Test）公司，是在半导体行业中扮演重要角色的专业服务提供商。）

8.封装过程

· 这是半导体制造过程的最后一步。通过前述步骤完成的晶圆被切割成单个半导体芯片，这些芯片可以装载在电子半导体设备上。

· 单个芯片必须有一条路径与外界交换电信号，并且有一个形式来保护它免受各种外部元素的影响。

· 晶圆被切割成单个芯片，切割后的芯片被放置在PCB板上。

· 在键合步骤中，将放置在基板上的半导体芯片的接触点与基板的接触点连接起来。然后通过模制完成芯片封装到所需的形状。

· 经过最终测试、密封和贴上产品名称标签后，我们常见的半导体芯片就完成了。

这些步骤确保了半导体芯片的质量和可靠性，它们是现代电子设备中不可或缺的组成部分。随着技术的不断进步，这些制造过程也在不断地改进，以生产更小、更快、更高效的芯片。切割后，经过测试，芯片厂会将Flash Die分为合格和不合格的产品，测试合格的Flash Die进行封装，不合格的降级晶圆是一些残留边缘，原厂会进行报废处理，也有很多流到下游封装厂进行处理，回收利用，称为黑膜墨水ink Die(黑膜晶圆指的是不良品)，最后被一些小制造商用于低价捆绑SD卡和U盘等产品。

芯片制造趋势与挑战

2.1 图案转移

图案转移技术的进步是推动半导体行业快速发展的关键因素，它使得制造更小、更复杂的电子组件成为可能。在图案转移技术中的一个重大进步是先进光刻技术的发展。光刻是使用光或其他辐射源将图案转移到表面的过程。近年来，开发了极紫外（EUV）光刻和多图案技术，以实现更小、更复杂图案的创建。EUV光刻使用非常短波长的光在硅晶圆上创建非常精细的图案。

这种技术能够创建仅几纳米大小的特征，这对于制造微处理器等高级电子组件至关重要。多图案是另一种先进的光刻技术，能够创建更小的图案。这种技术将单一图案分解为多个较小的图案，然后转移到晶圆表面。这使得可以创建小于光刻使用的辐射波长的图案。

2.2 掺杂

掺杂是通过向硅晶圆中添加杂质来改变其电学性质。掺杂技术的进步是推动半导体行业快速发展的关键因素，它使得制造更先进的电子组件成为可能。掺杂技术中的一个重大进步是用于掺杂的新材料的开发。传统上，硼和磷是最常用的掺杂材料，因为它们分别可以形成p型和n型半导体。然而，近年来，开发了如锗、砷和锑等新材料，可以用来制造更复杂的电子组件。掺杂技术的另一个进步是更精确的掺杂技术的开发。

过去，离子注入是用于掺杂的主要技术，涉及加速离子到高速，然后将它们植入晶圆表面。虽然离子注入仍然常用，但分子束外延（MBE）和化学气相沉积（CVD）等新技术已经开发出来，使得可以更精确地控制掺杂过程。

2.3 沉积

沉积是半导体制造中的一个关键过程，涉及在衬底上沉积薄层材料。这个过程可以通过物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）、原子层沉积（ALD）等不同的技术实现。半导体制造中沉积技术的最新进展包括金属有机化学气相沉积（MOCVD）、卷对卷沉积和等离子体增强沉积。

2.4 刻蚀

刻蚀涉及移除半导体材料的具体部分以创建图案或结构。刻蚀技术的进步是推动半导体行业快速发展的关键因素，它使得制造更小、更复杂的电子组件成为可能。刻蚀技术中的一个重大进步是新的刻蚀技术的开发。过去，湿法刻蚀是主要的刻蚀技术，涉及将晶圆浸入溶解材料的溶液中。然而，湿法刻蚀不精确，可能会损坏邻近的结构。开发了如反应离子刻蚀（RIE）和等离子体刻蚀等干法刻蚀技术，这些技术允许更精确和受控的刻蚀。

RIE是一种使用等离子体有选择地从晶圆上移除材料的技术，允许对刻蚀过程进行精确控制。等离子体刻蚀是一种类似的技术，使用气体等离子体移除材料，但具有可以有选择地移除特定材料（如金属或硅）的优点。

2.5 封装

半导体制造中的封装过程涉及将集成电路封装在一个保护性外壳中，同时为外部世界提供电气连接。封装过程可能会影响最终产品的性能、可靠性和成本。

3D封装是一种将多个晶圆堆叠在一起以创建高密度集成电路的技术。这种技术可以减少设备的整体尺寸，提高性能，同时降低功耗。扇出封装是一种将集成电路嵌入薄层环氧树脂中的技术，电气连接通过从晶圆向外扇出的铜柱实现。这种技术实现了具有较小外形尺寸的高密度封装。系统级封装（SiP）是一种将多个芯片、传感器和其他组件集成到单一封装中的技术。这种技术可以减少设备的整体尺寸，同时提高性能。