《半导体光电》创刊于1976年，是由中国电子科技集团公司主管、重庆光电技术研究所（中国电子科技集团公司第四十四研究所）主办的中文科技期刊。本刊国内外公开发行，经过四十余年的发展已经成为我国光电子专业领域有代表性的刊物。
《半导体光电》旨在传播、推广、交流光电子科学与技术，促进光电子技术及其相关学科理论和技术的繁荣与发展。在报道重点上，本刊秉持以光电器件为主体，以材料、结构及工艺为基础，以光电器件在各个领域中的应用为先导的选题原则。主要设有“动态综述”、“光电器件”、“材料、结构及工艺”、“光通信”及“光电技术应用”等栏目。
《半导体光电》是全国中文核心期刊，连续多年获得工业和信息化部“优秀科技期刊奖”。被中国科学引文数据库、中国学术期刊、INSPEC数据库、Elsevier二次文献Scopus数据库、《CA》、《JA》等众多国内外数据库收录，影响力逐年提升。
《半导体光电》投稿指南
来稿要求及注意事项:
1. 来稿文责自负。文稿务必主题明确,论述合理,逻辑严谨,数据可靠,叙述清楚,文字精炼。内容应保守国家机密,引用他人作品应给出来源。
2. 普通类型文稿一般不超过8 000 字，综述稿不限。所有稿件应附中英文题名、作者名、单位名、摘要和关键词。基金项目应注明编号。
3. 摘要应包括目的、方法、结果和结论四个要素,也就是用简洁的语言说明文章要解决的问题,主要工作过程及所采用的技术手段和方法,研究所获得的实验数据、结果及其意义。篇幅以200～250 字为宜。
4. 关键词以5～8 个为宜。为便于文献检索, 应尽可能提供中图分类号。
5.文中涉及的物理量和计量单位应符合国家有关标准。计量单位请用GB3100 - 3102 - 93《量和单位》规定的法定计量单位。注意区分各物理量符号的文种、大、小写、正、斜体(矢量和矩阵用黑斜体)、上、下角标等。
6. 插图和表格应有图题和表题。插图应采用计算机制作，勿用截图。本刊自2020年第4期开始改版为彩色印刷，接受彩色图文件。请在投稿时一并提交图文件，分辨率不低于600dpi，框图、流程图等推荐用visio软件绘制。
7. 文稿中引用他人的成果,务请写明原作者姓名、题名、来源,一并在参考文献中给出,并在正文中相应位置进行标示,否则责任由来稿人自负。参考文献只择主要的。
文献的著录格式严格按照以下形式书写（含标点符号）：
1) 专著：作者.书名.版本(第1版不著录)［M］.出版地:出版者,出版年:起止页码.
2) 译著:作者.书名［M］.译者,译.出版地:出版者,出版年:起止页码.
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4) 会议论文集:作者.题名［C］// 编者.论文集名.出版地:出版者,出版年:起止页码.
5) 学位论文:作者.题名:［学位论文］［D］.保存地:保存者,年份.
6) 专利文献:专利申请者.题名.专利国别,专利号［P］.公告日期或公开日期.
7) 标准:责任者.标准代号 标准名称［S］.出版地:出版者,出版年.
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9) 注意事项
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（2）外文著者一律用姓在名前，采用首字母缩写（中国人用全名不缩写）。姓和名之间不加逗号，名2个以上大写首字母，2名间空一格。文献作者3名以内全部列出，4名以上则列前3人，后加“et al”。各著者间不加“and”、“和”等，应用逗号分开。
（3）外文题名第一个单词首字母大写，其余单词（专有名词除外）均不大写。
（4）外文刊名应按国际标准规定缩写，不加缩写点。
（5） 为扩大期刊论文的传播范围，提高影响力，即日起，凡文中涉及的中文参考文献，请提供对应外文格式。
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